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99.6%氧化铝陶瓷基片


特点:表面光洁、高强度、超低介质损耗 用途:薄膜电路、厚膜电路、精密电阻、DPC、DBC、各类传感器等 能力:年产能500万片;各种厚度、外形尺寸及表面状态均可灵活定制。可提供预打孔、退火等专业服务,消除激光损伤层,协助客户提升产品良率。

氮化铝陶瓷基片


特点:表面光洁、高热导、高强度、低介质损耗 用途:薄膜电路、厚膜电路、DPC、DBC等 能力:拥有流延、烧结、研磨、抛光、切割、打孔的全工序能力,年产能100万片;各种厚度、外形尺寸及表面状态均可灵活定制。

高K陶瓷基片


特点:高介电常数、低介质损耗、温度特性稳定、耐压强度高 用途:单层芯片电容(SLC)、滤波器、微波布线基板等 能力:年产能20万片;各种厚度、外形尺寸及表面状态均可灵活定制。

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